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電子三氟化氮

電子三氟化氮

NF3氣體在高能化學激光、電子工業(yè)(IC)以及太陽能光電產(chǎn)業(yè)等方面具有非常廣泛的應用。

主要用途:

NF3的三個主要用途,是用作高能化學激光氣的氟源,二是作為電子工業(yè)(IC)中的蝕刻劑、清洗劑,三是應用于太陽能光電產(chǎn)業(yè)。

NF3其它用途:生產(chǎn)氟銨鹽,用作填充氣體以增加燈泡的壽命和亮度,在采礦和火箭技術中用作氧化劑等。

物化性質:

NF3在室溫和大氣壓力下是無色、穩(wěn)定和有毒的氣體。相對分子質量為71.002,沸點為-129.06℃。

NF3在室溫下較穩(wěn)定,但在800~1200℃下發(fā)生猛烈分解;NF3是種有潛力的氧化劑,別是在約200℃時,其反應性與氧相當;NF3在與其它元素反應時主要用作氟化劑;NF3在常溫下不與水、稀酸和稀堿溶液反應,但在100℃下與堿性溶液接觸時會緩慢水解生成亞硝酸鹽及氟化物,在電火花作用下,NF3可與水猛烈反應;NF3與H2或氫化物可快速反應并放出大量的熱,該反應是NF3用于高能化學激光器的基礎;NF3可與有機物作用,但通常需升高溫度以引發(fā)反應,因而常常發(fā)生爆炸;在低于70℃時NF3氣體對普通金屬不腐蝕,因此可用鋼、不銹鋼、鎳、銅和鋁等材料制作相關設備。

安數(shù)據(jù):

NF3是種有毒、不可燃的壓縮氣體;

無氣味,但其中所含的雜質使它聞起來有發(fā)霉的氣味;

暴露限: OSHA: PEL=10ppm. ACGIH: TWA/TLV=10ppm. NIOSH: 1000ppm.當進入濃度超過暴露限的泄方區(qū)時需配備自給式呼吸器(SCBA);

氧化劑,會引起或促進金屬和非金屬物質的燃燒,別是溫度超過200℃時;燃燒產(chǎn)物有毒;

使用NF3的任何系統(tǒng)都不應有油、油脂和其它有機物;

存儲于鋼瓶中,壓力小于1500psig,盛裝NF3的氣瓶不允許在高于52℃的環(huán)境下使用、貯存和運輸。

包裝規(guī)格:

包裝:高壓無縫碳鋼鋼瓶

包裝規(guī)格:47L標或DOT瓶、470L Y瓶等。

三氟化氮質量指標:

 三氟化氮(NF3),102   99.98 99.99 99.996
 四氟化碳(CF4),10-6  100 50 20
 氮(N2),10-6  10 10 5
 氧加氬(O2+Ar),10-6  10 5 3
 氧化碳(CO),10-6  10 5 1
 二氧化碳(CO2),10-6  10 5 0.5
 氧化亞氮(N2O),10-6  10 5 1
 六氟化硫(SF6),10-6  10 5 2
 可水解氟化物(以HF計)或總酸度,10-6  1 1 1
 水(H2O),10-6  1 1 1